+86-592-5803997
video

Гідрофторефір HFE347 Розчинник для чищення пластин

Гідрофторефір HFE347, який поєднує в собі нульовий ODP, низький GWP, не-займистість і нульовий залишок, швидко став новим фаворитом виробників і тепер вважається потужним доповненням і модернізацією до звичайних методів.

CAS NO: 406-78-0
ODP: 0
GWP:≈350

Опис

Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. є одним із провідних виробників і постачальників гідрофторефіру hfe347 розчинника для очищення пластин у Китаї. Якщо ви шукаєте розчинник для чищення пластин гідрофторефір hfe347, будь ласка, купуйте наші якісні продукти за конкурентоспроможною ціною на нашому заводі. Зв'яжіться з нами для отримання пропозиції.

 

Що таке очищення вафель? Тел.:+86-592-5803997

Очищення пластин — це важливий напівпровідниковий процес, який видаляє частинки, органічні та металеві забруднення з кремнієвих пластин за допомогою вологих хімічних ванн (наприклад, RCA Clean).,Травлення Piranha за допомогою H₂SO₄/H₂O₂), розчинників (ацетон, метанол), фтористоводневої кислоти (HF) і механічного чищення або мегазвукових методів, з подальшим промиванням над-чистою водою та сушінням азотом, щоб забезпечити бездефектні-поверхні для виготовлення мікрочіпів, з процесами, що розвиваються від пакетного занурення до однієї-пластини розпилення для точності.

 

Гідрофторефір HFE347, що поєднує нульовий ODP, низький GWP, не-займистість і нульовий залишок, швидко став новим фаворитом інженерів-виробників і тепер вважається потужним доповненням і модернізацією до традиційних методів.

semiconductor cleaning
процес очищення вафель Тел.:+86-592-5803997
Крок очищення вафель призначення
Перед-дифузійне очищення Створює поверхню, вільну від металевих, твердих часток і органічних забруднень. У деяких випадках потрібно видалити самородний оксид або хімічні оксиди.
Очищення від іонів металу Усуньте металеві іони, які можуть мати шкідливий вплив на роботу пристрою.
Видалення часток Очищення Видаліть частинки з поверхні за допомогою хімічного або механічного очищення за допомогою Megasonic cleaning.
Post Etch Clean Видаліть фоторезист і полімери, що залишилися після процесу травлення. Видаліть фоторезист і твердий залишок, у тому числі "полімер травлення".
Очищення видалення плівки Травлення/стрічка нітриду кремнію, травлення/стрічка оксиду, травлення кремнію та травлення/стрічка металу
Обмеження традиційного прибирання та стратегічна роль HFE Тел.:+86-592-5803997

Класичний процес очищення пластин RCA базується на високій-температурі та високо{1}}чистих водних хімічних розчинах (наприклад, SC-1, SC-2). Незважаючи на те, що цей процес чудово видаляє іони, металеві забруднення та частки, він має два внутрішніх обмеження:

 

Обмежена ефективність проти специфічних органічних забруднювачів, таких як залишки фоторезистів, мастила для вакуумних насосів, силіконові мастила та сучасні мастила з прецизійних компонентів.

Проблема сушіння «водою». Високий поверхневий натяг води становить критичну небезпеку під час останньої фази сушіння, часто призводить до згортання візерунка та залишків водяних знаків, особливо на структурах із високим -форматним-співвідношенням.

 

HFE 347, як передовий гідрофторефірний розчинник, безпосередньо справляється з цими проблемними точками завдяки своїм унікальним фізико-хімічним властивостям, позиціонуючи себе як ідеальне середовище для «точного сухого-і-вологого прибирання».

Основна інформація про очищення пластин Hydrofluoroether HFE347
Тел.:+86-592-5803997

HFE (гідрофторефір) — це клас органічних сполук, що складаються з водню, фтору, вуглецю та кисню, поєднуючи ефірні зв’язки (R-O-R') і фторалкільні структури. Він розроблений, щоб зберегти відмінні характеристики фторованих розчинників, одночасно зменшуючи вплив на навколишнє середовище (наприклад, руйнування озонового шару та потенціал глобального потепління). HFE широко використовується як засіб для точного очищення, охолоджувач, носій розчинника тощо, особливо в електроніці, напівпровідниках та аерокосмічній галузі.

 

Хімічна назва:

1,1,2,2-тетрафторетил 2,2,2-трифторетиловий ефір

CAS:

406-78-0

MF:

C4H3F7O

MW:

200.05

EINECS:

609-858-6

Хімічні властивості

Температура кипіння

56,2 градуса

щільність

1.487

показник заломлення

1.276

Питома вага

1.487

Довідник бази даних CAS

406-78-0 (довідка з бази даних CAS)

Система реєстрації речовин EPA

HFE-347pcf2 (406-78-0)

Тестові завдання

Технічні характеристики

Зовнішній вигляд

Прозора безбарвна рідина

Чистота

Більше або дорівнює 99,5%

вода

Менше або дорівнює 100 ppm

Очищення напівпровідникової пластини HFE 347 Factory Tour Тел.:+86-592-5803997
gas r410a factory 4
fk5 1 12 manufacturer
PERC

 

semiconductor Постачальник очищення - Профіль компанії Тел.:+86-592-5803997

 

hfa 134a propellant manufacturer

Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. – це стратегічне підприємство, інвестоване Juhua Group -, лідером у фторхімічній промисловості Китаю - для просування у високо-сектор електронних матеріалів.

 

Спираючись на всі сильні сторони промислового ланцюга Групи, починаючи від основної сировини, що містить фтор, і закінчуючи вдосконаленими фторполімерами, і спираючись на свій довгостроковий-технічний досвід, Juda прагне подолати міжнародні бар’єри поставок і досягти-самозабезпеченості основними електронними матеріалами. Компанія спеціалізується на постачанні основних високоефективних-рішень на основі фтору- для виробництва напівпровідників, інтегральних схем та інших складних електронних програм.

Популярні Мітки: гідрофторефір hfe347 розчинник для очищення пластин, постачальники, виробники, фабрика, ціна, ціна, купити

Зверніться до постачальника